多弧离子镀膜设备应用范围:主要用于镀制多种金属，也可以镀多层膜、合金膜及化学物膜，如镀超硬耐磨损膜、防腐蚀膜、装饰膜（金、银、黑、红、蓝、绿等颜色），结合磁控溅射技术可镀制多层复合膜。

镀膜设备结构特点:

1、采用脉冲技术，使沉积粒子细化，膜的性能提高，且具有沉积速度快、离子能力大等特点；

2、配备柱状阴极点弧源和磁控溅射源，适合范围广；

3、新型靶源结构，有效提高离化率和膜层均匀性；

4、所镀膜层具有硬度高，膜层与基底结合强度好，耐酸、碱、盐的能力强的特点